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英偉達新一代顯卡Feynman首發(fā)將1.6nm工藝

2025-10-31
來源:快科技
關鍵詞: 英偉達 Feynman 顯卡 1.6nm

10月30日消息,在前兩天的GTC華盛頓大會上,NVIDIA又發(fā)布了多款重量級AI產(chǎn)品,以Rubin GPU為核心衍生了多款超高性能AI服務器。

在這次會議上,NVIDIA也揭示了新一代產(chǎn)品,那就是代號Feynman的GPU,名字來源于美國理論物理學家理查德·費曼,是量子力學大佬,1965年獲得了諾貝爾物理學獎。

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當然,現(xiàn)在是沒有公布Feynman架構(gòu)的任何規(guī)格的,只知道會搭配下一代HBM內(nèi)存,至少要到2027年才會問世。

不過Feynman這一代的GPU會有一個重要變化,那就是首發(fā)臺積電的A16工藝,也就是1.6nm級別的工藝,是2nm的下一個節(jié)點,實際上它才是最初的2nm完整版。

除了具備N2工藝的GAA晶體管結(jié)構(gòu)之外,A16工藝有一個絕技,那就是加入了背面供電技術,類似Intel在18A工藝中PowerVia的做法,但臺積電的背面供電技術路線不同,使用的是SRP背面供電,提升了密度和性能,還提高了供電能力。

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根據(jù)臺積電的說法,相比N2P制程,A16在相同Vdd(工作電壓)下性能提升8-10%,在相同速度下,功耗降低15-20%,晶片密度高達1.10倍,特別適用于具有復雜訊號線路和高密度供電線路的高性能計算(High-Performance Computing,HPC)產(chǎn)品。

總之,A16工藝比N2工藝更適合AI芯片,能效會更高,這可能跟未來的AI芯片功耗越來越高有關,現(xiàn)在的Vera Rubin Ultra都要超過4000W了,就算使用液冷散熱都有很高壓力,F(xiàn)eynman這一代功耗只會更高。

NVIDIA的Feynman將會是臺積電A16工藝的第一個客戶,這也是20多年來NVIDIA再次首發(fā)臺積電的全新工藝,要知道這十多年來都是蘋果首發(fā)新工藝,畢竟NVIDIA今年或者明年就會變成臺積電最大客戶,取代蘋果的地位。


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